半导体装置
专利权的终止
摘要

本发明揭示了一种半导体装置,包括具有存储晶体管和选择晶体管的非易失性存储单元和周边电路晶体管。该存储晶体管包括设置在半导体基板上的存储栅氧化膜和设置在该存储栅氧化膜上由多晶硅制成的浮置栅极。该选择晶体管与该存储晶体管串联连接,并且包括设置在该半导体基板上的选择栅极氧化膜和设置在该选择栅极氧化膜上由多晶硅制成的选择栅。该周边电路晶体管包括设置在该半导体基板上的周边电路栅氧化膜和设置在该周边电路栅氧化膜上由多晶硅制成的周边电路栅。该存储栅氧化膜设置成比该周边电路栅氧化膜薄。

基本信息
专利标题 :
半导体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1934705A
申请号 :
CN200580008875.5
公开(公告)日 :
2007-03-21
申请日 :
2005-12-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吉田雅昭
申请人 :
株式会社理光
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
杨梧
优先权 :
CN200580008875.5
主分类号 :
H01L27/088
IPC分类号 :
H01L27/088  H01L27/115  H01L29/788  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/08
只包括有一种半导体组件的
H01L27/085
只包含场效应的组件
H01L27/088
有绝缘栅场效应晶体管的组件
法律状态
2017-02-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101701027292
IPC(主分类) : H01L 27/088
专利号 : ZL2005800088755
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20091230
终止日期 : 20151219
2015-04-22 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101713960019
IPC(主分类) : H01L 27/088
专利号 : ZL2005800088755
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社理光
变更后权利人 : 理光微电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本大阪
登记生效日 : 20150331
2009-12-30 :
授权
2007-05-16 :
实质审查的生效
2007-03-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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