荧光体及其制造方法以及使用它的发光装置及其制造方法

专利申请权、专利权的转移

摘要

将紫外线激发型或可见光激发型的荧光体以100nm～500nm范围内的波长激发后的发光色以xy坐标系表示时x坐标的最大值与最小值的差和y坐标的最大值与最小值的差分别在0.020以下。发光装置具备至少含有这样的荧光体的发光部。发光部被从激发源放出的紫外线或可见光激发而发出可见光。

基本信息

专利标题：

荧光体及其制造方法以及使用它的发光装置及其制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101056960A

申请号：

CN200580038205.8

公开（公告）日：

2007-10-17

申请日：

2005-11-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

山川昌彦

申请人：

株式会社东芝;东芝高新材料公司

申请人地址：

日本东京

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

沙永生

优先权：

CN200580038205.8

主分类号：

C09K11/08

IPC分类号：

C09K11/08 C09K11/59 C09K11/64 C09K11/73 C09K11/78 C09K11/81 C09K11/84 H01J11/02 H01J61/42 H01L33/00

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C09

染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用

C09K

不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用

C09K11/00

发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料

C09K11/08

含无机发光材料

法律状态

2022-02-01 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : C09K 11/08
登记生效日 : 20220119
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东芝高新材料公司
变更后权利人 : 首尔半导体有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本神奈川县
变更后权利人 : 韩国京畿道

2021-07-23 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : C09K 11/08
登记生效日 : 20210713
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社东芝
变更后权利人 : 东芝高新材料公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本神奈川县
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东芝高新材料公司

2011-06-29 ：

授权

2007-12-12 ：

实质审查的生效

2007-10-17 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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