氢分离膜、氢分离膜形成用溅射靶及其制造方法
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摘要
本发明涉及一种氢分离膜，具有NixMyZr100－x－y(M∶Nb和/或Ta、25≤x≤40、25≤y≤40)的组成，具有通过烧结平均粒径为50μm以下的喷雾粉得到的组织。得到所制造的氢分离膜不必使用高价的Pd金属，并能代替通过成本高的以往熔融金属的淬火得到的块状金属玻璃，没有氢分离膜的缺陷和组成不均匀的问题，组织均匀，并且能以高效、低成本分离氢的氢分离膜、氢分离膜形成用溅射靶及其制造方法。
基本信息
专利标题 ：
氢分离膜、氢分离膜形成用溅射靶及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101084056A
申请号 ：
CN200580039090.4
公开（公告）日 ：
2007-12-05
申请日 ：
2005-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中村笃志矢作政隆井上明久木村久道山浦真一
申请人 ：
日矿金属株式会社;东北大学
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
樊卫民
优先权 ：
CN200580039090.4
主分类号 ：
B01D71/02
IPC分类号 ：
B01D71/02 B01D53/22 C01G53/00 C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D71/00
以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法
B01D71/02
无机材料
法律状态
2017-04-05 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101749703256
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005800390904
变更事项 : 专利权人
变更前 : 吉坤日矿日石金属株式会社
变更后 : 捷客斯金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本东京
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东北大学
变更后 : 东北大学
号牌文件序号 : 101749703256
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005800390904
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变更前 : 吉坤日矿日石金属株式会社
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变更前 : 东北大学
变更后 : 东北大学
2011-07-20 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101115894185
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005800390904
变更事项 : 专利权人
变更前 : 日矿金属株式会社
变更后 : 吉坤日矿日石金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 东北大学
变更后 : 东北大学
号牌文件序号 : 101115894185
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005800390904
变更事项 : 专利权人
变更前 : 日矿金属株式会社
变更后 : 吉坤日矿日石金属株式会社
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变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 东北大学
变更后 : 东北大学
2009-10-21 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-12-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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