多孔全息膜

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明涉及全息膜的制备方法。该方法包括含有高反应性单体、低反应性单体和非反应性材料的可聚合的组合物。该方法包括图案化曝光以得到具有高反应性的单体的图案聚合物，继而也使具有低反应性的单体聚合以形成固体膜。该方法形成具有高折射率调制度和调制的孔隙率的全息膜。

基本信息

专利标题：

多孔全息膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101080672A

申请号：

CN200580043019.3

公开（公告）日：

2007-11-28

申请日：

2005-12-09

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

C·M·范黑施C·桑切斯M·J·埃斯库蒂C·W·M·巴斯蒂安森D·J·布勒尔

申请人：

荷兰聚合物研究所

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

程大军

优先权：

CN200580043019.3

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/038

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

法律状态

2011-01-19 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063085787
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利申请号 : 2005800430193
公开日 : 20071128

2008-02-13 ：

实质审查的生效

2007-11-28 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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