在扫描离子植入期间改进的剂量均匀度
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明是关于以一序列植入程序将离子直接植入于工件中，使得在工件上产生一个或更多扫描图案，该图案相似于工件大小、形状以及其他尺寸方面。更进一步，扫描图案为相互叠插的并且可以连续产生，直到整个工件均匀地以离子植入为止。
基本信息
专利标题 ：
在扫描离子植入期间改进的剂量均匀度
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101124649A
申请号 ：
CN200580043499.3
公开（公告）日 ：
2008-02-13
申请日 ：
2005-11-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·葛瑞夫A·芮
申请人 ：
艾克塞利斯技术公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
王岳
优先权 ：
CN200580043499.3
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317 H01J37/20 H01J37/302 H01L21/687 H01J37/304
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2012-03-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101298328697
IPC(主分类) : H01J 37/317
专利申请号 : 2005800434993
公开日 : 20080213
号牌文件序号 : 101298328697
IPC(主分类) : H01J 37/317
专利申请号 : 2005800434993
公开日 : 20080213
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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