薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
提供了一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法，该方法包括在基板上形成具有栅电极、源电极、和漏电极的薄膜晶体管；在源电极和漏电极上形成钝化层；在钝化层上形成光刻胶膜；使用光刻胶膜作为掩模选择性地蚀刻钝化层；形成导电膜；以及使用CMP(化学机械抛光)工艺去除光刻胶膜和设置在光刻胶膜上的导电膜，以形成连接到漏电极的像素电极。
基本信息
专利标题 ：
薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1825596A
申请号 ：
CN200610001079.5
公开（公告）日 ：
2006-08-30
申请日 ：
2006-01-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白范基金爀珍
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李伟
优先权 ：
CN200610001079.5
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L21/84
法律状态
2008-09-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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