膜图案的形成方法和器件的制法、电光学装置和电子仪器
专利权的终止
摘要
本发明提供：可以高精度、均匀形成微细化或细线化的膜图案的膜图案的形成方法。所述方法包括：在基板(P)上形成表面已疏液化的第一贮格围堰(B1)的工序；在由第一贮格围堰(B1)所划分的区域内配置第一功能液(L1)的工序；干燥第一功能液(L1)的工序；在第一贮格围堰(B1)上形成第二贮格围堰(B2)的工序；在第二贮格围堰(B2)所划分的区域，配置第二功能液(L2)的工序。在本发明中，配置第一功能液(L1)的工序与配置第二功能液(L2)的工序之间，设了使第一贮格围堰(B1)表面亲液处理的工序。由此，提高了第二功能液(L2)与作为基底的第一贮格围堰(B1)之间的湿润性，可以形成良好的第二膜图案(F2)。
基本信息
专利标题 ：
膜图案的形成方法和器件的制法、电光学装置和电子仪器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1825173A
申请号 ：
CN200610009045.0
公开（公告）日 ：
2006-08-30
申请日 ：
2006-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
平井利充守屋克之
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汪惠民
优先权 ：
CN200610009045.0
主分类号 ：
G02F1/133
IPC分类号 ：
G02F1/133 G02F1/136 H01L51/00 G09F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
法律状态
2013-04-03 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101431317538
IPC(主分类) : G02F 1/133
专利号 : ZL2006100090450
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20081203
终止日期 : 20120217
号牌文件序号 : 101431317538
IPC(主分类) : G02F 1/133
专利号 : ZL2006100090450
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20081203
终止日期 : 20120217
2008-12-03 ：
授权
2006-10-25 ：
实质审查的生效
2006-08-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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