膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供可以精度良好地稳定地形成谋求微细化或细线化的膜图案的薄膜图案的形成方法。具有：在基板(P)上形成贮格围堰(B)的工序；将功能液(L)配置到由贮格围堰(B)划分的区域内的工序；和干燥配置在基板(P)上的功能液L而形成膜图案F的工序。贮格围堰的形成材料由烧结以聚硅氮烷作为主成分的感光性贮格围堰形成材料的无机质材料构成。
基本信息
专利标题 ：
膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1816253A
申请号 ：
CN200610006950.0
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
守屋克之平井利充
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汪惠民
优先权 ：
CN200610006950.0
主分类号 ：
H05K3/12
IPC分类号 ：
H05K3/12 H05K3/00 B41J2/005 H01L21/00 H01L27/32 H05B33/10 C08L83/16 C09D183/16
法律状态
2009-10-07 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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