膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器

专利权的视为放弃

摘要

本发明提供一种膜图案形成方法，具有：在基板(P)上形成贮格围堰(B)的工序；和将功能液(L)配置到由贮格围堰(B)划分的区域内的工序和干燥功能液(L)的工序。在本发明中，贮格围堰(B)的形成工序具有：形成多层由无机质材料构成的层(B1、B2)的工序、用有机掩模(R)使该多层(B1、B2)进行图案化的工序和除去有机掩模(R)的工序。这样，通过除去作为有机膜的有机掩模(R)、仅在无机膜层(B1、B2)上形成贮格围堰(B)，可以确保高温工序下的耐热性。另外，由多层(B1、B2)形成贮格围堰(B)，还可以确保必要的贮格围堰厚度。可以精度良好地均匀地形成谋求微细化或细线化的膜图案。

基本信息

专利标题：

膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1816254A

申请号：

CN200610006987.3

公开（公告）日：

2006-08-09

申请日：

2006-01-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

平井利充

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汪惠民

优先权：

CN200610006987.3

主分类号：

H05K3/12

IPC分类号：

H05K3/12 H05K3/00 B41J2/005 H01L21/00 H01L27/32 H05B33/10