一种用于纳米粒子束流源的复合型分离器
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明公开了一种用于纳米粒子束流源的复合型分离器，它是采用光汇集再发散的气流通道结构，该气流通道由圆锥形的入口侧(12)，圆锥形的出口侧(13)和连接入口侧(12)的喉部(14)所构成。本发明的分离器采用先汇集再发散的气流通道结构取代了原来的分离器中尖锥形的单发散气流通道，使纳米粒子束流源强度获得大幅度提高，用旧的分离得到的束流等效沉积率小于0.2nm/s，而新结构的分离器得到高于5nm/s的等效沉积率的高强度束流，足以满足纳米结构薄膜沉积工艺的需要，新结构气流通道的分离器工作时间由原来数小时增加到理论上的无限长时间。
基本信息
专利标题 ：
一种用于纳米粒子束流源的复合型分离器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804107A
申请号 ：
CN200610037969.1
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韩民许长辉贺龙兵杨玲周剑峰万建国王广厚
申请人 ：
南京大学
申请人地址 ：
210093江苏省南京市汉口路22号
代理机构 ：
南京苏高专利事务所
代理人 ：
阙如生
优先权 ：
CN200610037969.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2009-09-09 ：
发明专利申请公布后的驳回
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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