制备金刚石薄膜和刻蚀碳膜的微波等离子体装置
专利权的无效、部分无效宣告
摘要

一种制备金刚石薄膜和刻蚀碳膜的微波等离子体装置,它主要包括有一产生微波源的磁控管,磁控管通过一矩形波导管、三螺钉阻抗调配器接有微波谐振腔,在微波谐振腔内设置有石英管反应室,在微波谐振腔的边上还接有一短路活塞;所述的矩形波导管的前面还接有一环形器,并在其周围设置有连接于水冷却系统的水负载;所述的水冷却系统还连接于一设置在微波谐振腔上下的水冷支架,在微波谐振腔的石英管反应室内中心设置有基片台;所述的基片台上设置有连接外测量仪的热电偶传感器,且基片台的下部连接有一升降杆;所述的石英管反应室通过一高真空隔膜阀和高真孔微调阀与一真空泵相连,并在石英管反应室内设置有测量真空度的真空计;它具有结构简单、合理,使用方便、可靠等特点。

基本信息
专利标题 :
制备金刚石薄膜和刻蚀碳膜的微波等离子体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620102055.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-03-27
授权号 :
CN2898057Y
授权日 :
2007-05-09
发明人 :
马志斌郑志荣
申请人 :
杭州大华仪器制造有限公司
申请人地址 :
311401浙江省富阳市东山路23号
代理机构 :
杭州九洲专利事务所有限公司
代理人 :
翁霁明
优先权 :
CN200620102055.4
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513  C23C16/52  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2010-11-10 :
专利权的无效、部分无效宣告
专利权全部无效号牌文件类型代码 : 1609
号牌文件序号 : 101013282148
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006201020554
授权公告日 : 20070509
无效宣告决定日 : 20100201
无效宣告决定号 : 14356
2007-05-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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