用于监测微结构蚀刻工艺的改进的方法和装置

发明专利申请公布后的驳回

摘要

描述一种用于制造位于蚀刻腔体(3)内的微结构(2)(特别是MEMS)的蚀刻监测装置(1)及其相关方法。该装置(1)及其相关方法通过将其中定位了微结构(2)的腔体(3)内的温度设定为起始温度，并且将该腔体(3)内的蚀刻气体分压保持在恒定值来操作。因此，该腔体(3)内的微结构(2)的表面温度主要由蚀刻速率来确定。从而，通过使用温度计(8)监测蚀刻表面温度的变化，提供用于监测蚀刻工艺的直接诊断。

基本信息

专利标题：

用于监测微结构蚀刻工艺的改进的方法和装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101128910A

申请号：

CN200680005811.4

公开（公告）日：

2008-02-20

申请日：

2006-01-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·奥哈拉M·利维G·普林格尔

申请人：

点35微结构有限公司

申请人地址：

英国利文斯顿

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王英

优先权：

CN200680005811.4

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32 H01L21/32 C23F4/02