光学测量装置
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摘要
通过在设置在容器(1)内的电极对(2)上施加电压，在存储样品的容器(1)中产生规则分布的电场分布，因此产生由容器(1)内的样品中粒子的密度调节形成的衍射光栅，基于通过在通过粒子的密度调节形成的衍射光栅上照射光束而获得的衍射光束的强度的消灭过程的时间变化，获得粒子的扩散信息，构成电极对2的电极(21、22)被构成具有多个彼此平行的线性电极齿(21a、22a)，电极(21、22)被布置成一个电极(21)的电极齿(21a)插在另一个电极齿(22a)之间，因此增加了通过粒子的密度调节形成的衍射光栅的宽度，并且包括在整个衍射光束中的衍射光栅的衍射光束的部分的比率增加，以便增加测量的敏感度。结果，设置了光学测量装置，其能够以高敏感度和优良的S/N比率来测量可移动地散布在介质中的粒子的扩散信息。
基本信息
专利标题 ：
光学测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101223433A
申请号 ：
CN200680026334.X
公开（公告）日 ：
2008-07-16
申请日 ：
2006-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
森谷直司南云雄三和田幸久坂内尚史井上藤男竹部雅博田洼健二十时慎一郎
申请人 ：
株式会社岛津制作所
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
宋焰琴
优先权 ：
CN200680026334.X
主分类号 ：
G01N15/02
IPC分类号 ：
G01N15/02 G01N21/47
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N15/00
测试颗粒的特性；测试多孔材料的渗透性，孔隙体积或者孔隙表面积
G01N15/02
测试颗粒的粒度或粒经分布
法律状态
2012-01-25 ：
授权
2008-09-10 ：
实质审查的生效
2008-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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