光学测量设备
公开
摘要
一种光学测量设备，其相对于基准面进行光轴调节并获得高测量精度。在箱形光接收壳体的外面中，具有在放置光接收壳体时成为基准的基准面。在光接收壳体中，安装有光接收侧远心透镜。保持二维成像元件的成像元件保持件设置于光接收壳体的与导入开口相对的内面，并且二维成像元件以位置和姿势可调的方式安装。
基本信息
专利标题 ：
光学测量设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114518069A
申请号 ：
CN202111319078.6
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2021-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
南川义久武井英人末村悠祐
申请人 ：
株式会社基恩士
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
项军花
优先权 ：
CN202111319078.6
主分类号 ：
G01B11/00
IPC分类号 ：
G01B11/00 G01B11/27
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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