本实用新型涉及制备种类薄膜的设备，具体地说是一种用于承载基片的真空镀膜的加热基片架，包括蒸发源、传动组件、支撑组件及步进电机磁力转轴，步进电机磁力转轴安装在支撑组件上，蒸发源设置在传动组件上、并通过传动组件与步进电机磁力转轴连动。本实用新型的基片在镀膜过程中可旋转，提高了镀膜的均匀性，保证了膜层质量；靶材和基片之间的距离可以调节，针对不同的膜材可以选择不同的距离，从而扩大了靶材的选择范围，提高了镀膜效率；蒸发源的炉盘结构简单，很好地突破了电阻丝难以固定和束缚的难点，避免电阻丝因受热变形而脱开炉盘造成短路，延长了蒸发源的使用寿命，提高了蒸发源的可靠性；基片挡板对基片起到防护作用，屏蔽了污染。