直立式连续式两面镀膜设备
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了直立式连续式两面镀膜设备,应用于溅镀工件环境中。该直立式连续式两面镀膜设备包含:多个直立式腔体,该多个直立式腔体用以对工件进行溅镀;多个活动式闸门,在不同的直立式腔体之间以该活动式闸门予以隔离,以避免影响直立式腔体的真空度及/或洁净度;以及载具,在不同的直立式腔体之间,利用该载具来传送该工件,其中,利用该多个直立式腔体中不同工艺的直立式腔体的单侧且对称的两面放置阴极,以让该工件经由该载具送入时,可在一次的真空传送过程中完成该工件的两面溅镀。该直立式连续式两面镀膜设备可同时对工件的两面进行溅镀和/或在一次的真空传送过程中完成工件两面的溅镀。

基本信息
专利标题 :
直立式连续式两面镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820130094.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-23
授权号 :
CN201258358Y
授权日 :
2009-06-17
发明人 :
郑兆希
申请人 :
向熙科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾台北县
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
许 静
优先权 :
CN200820130094.4
主分类号 :
C23C14/36
IPC分类号 :
C23C14/36  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/36
二极溅射
法律状态
2013-11-13 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101539122785
IPC(主分类) : C23C 14/36
专利号 : ZL2008201300944
申请日 : 20080923
授权公告日 : 20090617
终止日期 : 20120923
2009-06-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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