原子层沉积室及其部件
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种原子层沉积室，其包括气体分配器，该气体分配器包括在气体入口和气体出口之间具有圆锥形通路的中心覆盖。气体分配器还具有包括连接着的第一和第二圆锥形孔的吊线板。第一圆锥形孔从中心覆盖的气体出口接收处理气体。第二圆锥形孔从第一圆锥形孔向外径向延伸。该气体分配器还具有位于室侧壁上的外围凸缘。
基本信息
专利标题 ：
原子层沉积室及其部件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820136183.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-09-28
授权号 ：
CN201367461Y
授权日 ：
2009-12-23
发明人 ：
迪-业·吴舒伯特·S·楚保罗·马杰弗里·托宾
申请人 ：
应用材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200820136183.X
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2018-10-26 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20080928
授权公告日 : 20091223
申请日 : 20080928
授权公告日 : 20091223
2012-01-25 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101272525384
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL200820136183X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 应用材料股份有限公司
变更后 : 应用材料公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
号牌文件序号 : 101272525384
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL200820136183X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 应用材料股份有限公司
变更后 : 应用材料公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
2009-12-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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