用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及多晶硅生产制造领域，是一种用于多晶硅生产过程中控制三氯氢硅与氢气比率的装置。本实用新型装置也可以应用于合成光学石英玻璃生产制造领域，在合成光学石英玻璃生产过程中控制四氯化硅与载料气体的比率。所述汽化装置的挥发器由挥发槽、喷雾管、加热管，支承件和支承座组成。本实用新型有利于提高还原炉的生产能力和降低还原生产损耗。也有利于多晶硅生产企业实现自动化和集群化生产控制。

基本信息

专利标题：

用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820154319.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-10-22

授权号：

CN201362757Y

授权日：

2009-12-16

发明人：

吕国华袁克文钱承荣

申请人：

上海棱光实业股份有限公司

申请人地址：

200241上海市闵行区龙吴路4900号

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

徐伟奇

优先权：

CN200820154319.X

主分类号：

C30B28/14

IPC分类号：

C30B28/14 C30B29/06 C01B33/03