多晶硅氢还原炉
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种多晶硅氢还原炉。包括带有冷却装置的炉壁,炉壁上安装有视镜,视镜包括视镜玻璃和通入还原炉内壁的内空式镜筒,炉壁安装在底盘上;底盘上布有进、出气装置,底盘设有加热电极,电极上一一对应安装有硅芯棒,硅芯棒和电极为各18对,即各36个,且在底盘上沿三个同心圆周均布设置,所述视镜玻璃为单层玻璃结构,视镜玻璃内表面侧的镜筒筒壁上设有两端分别与镜筒外的进气管和镜筒内通道相通的气体通道。本实用新型不仅可以实现大直径、多对棒生产,提高了多晶硅产量,有效节约了生产成本,同时有效解决了由于水冷而污染视镜玻璃和形成硅附着物的问题,并且结构简单,保证了视镜在生产中不被污染。

基本信息
专利标题 :
多晶硅氢还原炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720081576.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-10-23
授权号 :
CN201105988Y
授权日 :
2008-08-27
发明人 :
刘汉元戴自忠
申请人 :
四川永祥多晶硅有限公司
申请人地址 :
614800四川省乐山市五通桥竹根镇新华村
代理机构 :
成都天嘉专利事务所
代理人 :
方强
优先权 :
CN200720081576.0
主分类号 :
C01B33/023
IPC分类号 :
C01B33/023  C01B33/03  C30B29/06  C30B35/00  F27B5/04  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
C01B33/021
制备
C01B33/023
用二氧化硅或含二氧化硅的物料的还原方法
法律状态
2017-11-24 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C01B 33/023
申请日 : 20071023
授权公告日 : 20080827
2008-08-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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