多晶硅还原炉供料系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉供料系统，包括雾化装置和管道式挥发器，雾化装置限定有雾化腔且设有与雾化腔连通的三氯氢硅液体进口、氢气进口和雾出口，雾化装置用于将进入雾化腔的三氯氢硅液体和氢气进行均匀雾化，产生雾气并经过雾出口排出；管道式挥发器包括内管和加热组件，内管一端与雾化装置的雾出口连通，另一端与还原炉连通；加热组件位于内管的外周并沿内管长度方向延伸；加热组件用于对从雾出口进入内管的雾气加热汽化形成混合气，以向还原炉供入混合气。本实用新型的多晶硅还原炉供料系统稳定性高，配比精度高，配比调节灵活，多晶硅产品质量高。

基本信息

专利标题：

多晶硅还原炉供料系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921342009.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-16

授权号：

CN211255270U

授权日：

2020-08-14

发明人：

陈辉万烨孙强张晓伟张邦洁王浩聂冬冬

申请人：

洛阳中硅高科技有限公司;中国恩菲工程技术有限公司

申请人地址：

河南省洛阳市洛龙科技工业园牡丹大道西1号

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

宋合成

优先权：

CN201921342009.5

主分类号：

C01B33/027

IPC分类号：

C01B33/027