多晶硅氢还原炉
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种多晶硅氢还原炉。包括壳体,炉支架,壳体上部设有封头,安装在炉支架上的底盘,底盘上设有电极和与电极一对应安装的硅芯棒,炉支架底盘下部安装有进、出气管,进、出气管分别与安装在底盘上表面的喷口和尾气出口连通,进气管上设有控制流量和压力的调节阀,电极和硅芯棒为各13对,即各26个,且在底盘上沿三个圆周均布,由内圆周向外圆周分别为第一圈5个、第二圈5个、第三圈16个;底盘的喷口为7个,其中1个喷口设置在底盘中心,其余6个喷口均布设置在第二和第三电极圈之间,尾气出口设置在底盘中心。本实用新型可有效提高多晶硅的产量,同时节能降耗。

基本信息
专利标题 :
多晶硅氢还原炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720081579.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-10-23
授权号 :
CN201105991Y
授权日 :
2008-08-27
发明人 :
易正义徐远林张春林
申请人 :
四川永祥多晶硅有限公司
申请人地址 :
614800四川省乐山市五通桥竹根镇新华村
代理机构 :
成都天嘉专利事务所
代理人 :
方强
优先权 :
CN200720081579.4
主分类号 :
C01B33/023
IPC分类号 :
C01B33/023  C01B33/03  C30B29/06  C30B35/00  F27B5/04  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
C01B33/021
制备
C01B33/023
用二氧化硅或含二氧化硅的物料的还原方法
法律状态
2017-11-24 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C01B 33/023
申请日 : 20071023
授权公告日 : 20080827
2008-08-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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