用于图案保真度控制的方法与设备
授权
摘要
一种确定形貌的方法，该方法包括：获得第一聚焦值，所述第一聚焦值从对未经图案化的衬底的图案化建模的计算光刻模型导出或从未经图案化的衬底上的图案化层的测量导出；获得第二聚焦值，所述第二聚焦值从具有形貌的衬底的测量导出；和根据第一聚焦值和第二聚焦值确定所述形貌的值。
基本信息
专利标题 ：
用于图案保真度控制的方法与设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110088689A
申请号 ：
CN201780079785.8
公开（公告）日 ：
2019-08-02
申请日 ：
2017-11-28
授权号 ：
CN110088689B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
T·哈桑V·K·贾因斯蒂芬·亨斯克B·拉方丹
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王静
优先权 ：
CN201780079785.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2019-08-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20171128
申请日 : 20171128
2019-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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