晶片表面曲率确定系统
授权
摘要
一种用于对晶片(2)的表面(20)的曲率(200)进行原位测量的系统(1)，所述系统(1)包括：多波长光源模块(101)，适于发射包括多个波长(301；302；303)的入射光(3)；光学装置(104)，被配置为将所述入射光(3)组合成单个光束(5)，并朝向晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5)，使得所述单个光束(5)在所述表面(20)上的单个测量光斑(202)处撞击表面(20)；以及曲率确定单元(103)，被配置为根据与在所述单个测量光斑(202)处在所述表面(20)上被反射的所述单个光束(5)相对应的反射光(4)，确定所述晶片(2)的所述表面(20)的曲率(200)。
基本信息
专利标题 ：
晶片表面曲率确定系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111556954A
申请号 ：
CN201880082769.9
公开（公告）日 ：
2020-08-18
申请日 ：
2018-12-20
授权号 ：
CN111556954B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
罗兰·皮舍斯蒂芬·迪格鲁特乔夫·德卢伊
申请人 ：
埃皮根股份有限公司
申请人地址 ：
比利时哈瑟尔特
代理机构 ：
成都超凡明远知识产权代理有限公司
代理人 ：
王晖
优先权 ：
CN201880082769.9
主分类号 ：
G01B11/255
IPC分类号 ：
G01B11/255 H01L21/66 G01B11/24 G01B11/30 G01N21/95 G01N21/956
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/255
用于测量曲率半径
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-01-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/255
申请日 : 20181220
申请日 : 20181220
2020-08-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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