一种光学参数与形貌同时测量的装置
授权
摘要

本发明公开了一种光学参数与形貌同时测量的装置。该装置包括第一光路组件和第二光路组件。第一光路组件用于将第一光源光垂直照射到待测物品上,并将第一光源光经待测物品反射出的光线至少分为两束光;检测两束光中的一束光的光强;感应两束光中的另一束光,处理生成图像。第二光路组件用于将线偏振光斜射在待测物品上;改变线偏振光经待测物品反射后的光线的偏振方向,并输出偏振光;检测偏振光的光强。其中,线偏振光斜射在待测物品上被第一分光器垂直照射的位置。通过上述方式,本发明能够同时进行待测物品的反射特性和表面形貌的测量,也可进一步测试待测物品的椭偏特性,并且测量装置结构简单。

基本信息
专利标题 :
一种光学参数与形貌同时测量的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110779874A
申请号 :
CN201911045284.5
公开(公告)日 :
2020-02-11
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN110779874B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
宋斐何晋国
申请人 :
深圳瑞波光电子有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区西丽镇茶光路1089号深圳集成电路设计应用产业园404
代理机构 :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
钟子敏
优先权 :
CN201911045284.5
主分类号 :
G01N21/21
IPC分类号 :
G01N21/21  G01N21/55  G01B11/24  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-03-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20191030
2020-02-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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