阵列基板缺陷的修补方法及存储介质
授权
摘要
本发明提供了一种阵列基板缺陷的修补方法及存储介质，包括：图像获取步骤、区域划分步骤、图像灰阶处理步骤、缺陷侦测步骤以及修补步骤。本发明通过将子像素的特定检测区，该特定检测区包括阵列基板的金属材料区域，并侦测特定检测区中每一子像素的灰阶值，对每一子像素的灰阶值与该子像素相邻的至少两个子像素的灰阶值进行比较，进而判断每一子像素是否存在缺陷，这减小了检测漏放的风险，提高显示面板的产品良率。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板缺陷的修补方法及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111061104A
申请号 ：
CN201911390931.6
公开（公告）日 ：
2020-04-24
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN111061104B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王继宇
申请人 ：
TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕姝娟
优先权 ：
CN201911390931.6
主分类号 ：
G02F1/1362
IPC分类号 ：
G02F1/1362
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-05-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20191230
申请日 : 20191230
2020-04-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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