基板处理装置具备：旋转保持部，其用于保持基板并使所述基板旋转；处理液供给部，其用于向基板的表面供给处理液；涂布控制部，其执行供给处理和涂布处理，所述供给处理包括一边使基板以供给用的旋转速度旋转、一边向该基板的表面供给处理液，所述涂布处理包括在处理液的供给完成之后使基板旋转以使处理液沿着基板的表面扩展；供给开始检测部，其在供给处理的执行过程中基于处理液的喷出流量的时间变化来检测处理液的供给开始定时；以及条件变更部，其基于供给开始定时来至少变更处理液的供给完成定时或供给用的旋转速度，以抑制因供给开始定时相对于目标定时偏离而引起处理液的供给期间中的基板的旋转次数从目标旋转次数偏离。