基板处理方法、基板处理装置和存储介质
公开
摘要
本发明的课题在于改善使用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板的曝光时的灵敏度。在基板处理方法中，在处理容器内，对形成有基于EUV光刻用抗蚀剂材料的抗蚀剂膜的基板的表面，在曝光处理前照射包含真空紫外光的光。
基本信息
专利标题 ：
基板处理方法、基板处理装置和存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326312A
申请号 ：
CN202111146745.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中启一吉原孝介近藤良弘村松诚小玉辉彦
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202111146745.5
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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