基板处理方法和记录介质

专利权的终止

摘要

本发明提供一种基板处理方法，其是具有在内部保持被处理基板的处理容器、将第一处理气体供给所述处理容器且包含流量调整单元的第一气体供给单元、和将第二处理气体供给所述处理容器的第二供给单元的基板处理装置的基板处理方法，其特征在于：其反复进行将所述第一处理气体通过所述流量调整单元控制为第一流量并在所述第一方向上进行供给的第一工序、从所述处理容器排出该第一处理气体的第二工序、将所述第二处理气体供给所述处理容器的第三工序、和从所述处理容器排出该第二处理气体的第四工序，在1的第一工序与在该1的第一工序接下来实施的2的第一工序之间设有处理气体流量稳定工序。

基本信息

专利标题：

基板处理方法和记录介质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101147245A

申请号：

CN200680009290.X

公开（公告）日：

2008-03-19

申请日：

2006-02-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

竹山环二村宗久

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200680009290.X

主分类号：

H01L21/31

IPC分类号：

H01L21/31 C23C16/455