一种Coater机台作业腔体真空环境形成装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本实用新型提供一种Coater机台作业腔体真空环境形成装置。所述Coater机台作业腔体真空环境形成装置包括:腔体和抽风泵;抽风管,所述抽风管的一端连通于所述抽风泵的抽风口,所述抽风管的另一端贯穿所述腔体并延伸至所述腔体的内部;密封结构,所述密封结构设置于所述腔体的顶部的一侧,所述密封结构包括Z型板,所述Z型板的底部通过支撑块转动连接于所述腔体的顶部的一侧。本实用新型提供的Coater机台作业腔体真空环境形成装置,在其作业腔体增加密封结构,当Z型板完成封闭时,腔体由抽风泵进行抽风,使腔体的内部达到一定的低压,从而保证腔体的压力在一定的真空下进行作业,颗粒大大的减少,而且异常毛病也大大的减少,一定上提高了产品产量。
基本信息
专利标题 :
一种Coater机台作业腔体真空环境形成装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920499407.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-15
授权号 :
CN209822598U
授权日 :
2019-12-20
发明人 :
程玉霞
申请人 :
合肥新汇成微电子有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920499407.1
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-06-04 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/67
变更事项 : 专利权人
变更前 : 合肥新汇成微电子有限公司
变更后 : 合肥新汇成微电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
变更后 : 230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
变更事项 : 专利权人
变更前 : 合肥新汇成微电子有限公司
变更后 : 合肥新汇成微电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
变更后 : 230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内
2019-12-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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