一种异形基材的曝光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种异形基材的曝光装置，包括：异形基材，所述异形基材为非平面状；柔性掩膜板，贴合于所述异形基材上；异形夹具，所述异形夹具具有与所述异形基材相适应的起伏形貌的表面，用于放置所述异形基材；磁吸附装置，用于将所述柔性掩膜板、异形基材和异形夹具压紧固定；曝光光源，用于使异形基材上的感光油墨曝光。本实用新型中，异形基材卡位于异形夹具上，柔性掩膜板贴合于异形基材上，磁吸附装置用于将所述柔性掩膜板、异形基材和异形夹具压紧固定，提高曝光精度，开启曝光光源即可完成对异形基材的曝光制程，可以在异形基材上形成清晰、美观、连续的复杂腐蚀图案。
基本信息
专利标题 ：
一种异形基材的曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920522081.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-17
授权号 ：
CN209674183U
授权日 ：
2019-11-22
发明人 ：
谢为芝朱雁曾一鑫
申请人 ：
信元光电有限公司
申请人地址 ：
广东省汕尾市汕尾市城区信利工业城26栋4楼
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
许青华
优先权 ：
CN201920522081.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-11-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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