一种引线框架的铜带的垂直曝光系统

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

一种引线框架的铜带的垂直曝光系统，属于半导体生产技术领域。其特征在于：在暗箱（9）的两侧分别设置有进料轮（2）和收料轮（15），在暗箱（9）与进料轮（2）和收料轮（15）之间分别设置自由进料缓冲机构和收料缓冲机构，铜带（1）自进料轮（2）输出后经过进料缓冲机构后自暗箱（9）正上方的入口竖直进入暗箱（9）曝光；在暗箱（9）的正下方设置有动力轮组（11），铜带（1）曝光完成自暗箱（9）正下方的出口输出后经过动力轮组（11）以及收料缓冲机构后在收料轮（15）表面缠绕。在本引线框架的铜带的垂直曝光系统中，铜带竖直进入暗箱内进行曝光，避免了水平曝光时微尘降落到铜带表面形成沙孔弊端，提高了产品品质。

基本信息

专利标题：

一种引线框架的铜带的垂直曝光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920771772.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-27

授权号：

CN209911755U

授权日：

2020-01-07

发明人：

朱春阳刘松源黄伟李昌文徐治陈迅马伟凯刘琪

申请人：

山东新恒汇电子科技有限公司

申请人地址：

山东省淄博市高新区中润大道187号

代理机构：

淄博佳和专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

孙爱华

优先权：

CN201920771772.3

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/67

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2021-02-23 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 山东新恒汇电子科技有限公司
变更后 : 新恒汇电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 255088 山东省淄博市高新区中润大道187号
变更后 : 255088 山东省淄博市高新区中润大道187号

2020-01-07 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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