一种芯片生产用清洗设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种芯片生产用清洗设备,包括基座,所述基座底部外壁的两侧均焊接有支架,且基座的顶端焊接有封闭框,所述封闭框的两侧均开有通口,且封闭框的顶端外壁设置有供水机构,所述基座顶端的一边焊接有烘干箱,且烘干箱内设置有烘干组件,所述封闭框的顶端内壁设置有喷淋清洗机构。本实用新型机械化喷水清洗,能够通过水泵抽液的方式在芯片上进行喷淋清洗液,快速全面清洁,提高了芯片的清洗效率,能够通过烘干风机吹风烘干的方式,加速芯片干燥,能够有效节省芯片干燥时间,提高了芯片加工的生产效率,且设置斜板能够通过斜板将芯片滑出。
基本信息
专利标题 :
一种芯片生产用清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920796640.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-30
授权号 :
CN210207808U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
张益铭
申请人 :
上海芯强微电子股份有限公司
申请人地址 :
上海市静安区南京西路1486号3号楼422室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920796640.6
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 F26B21/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-05-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20190530
授权公告日 : 20200331
终止日期 : 20210530
申请日 : 20190530
授权公告日 : 20200331
终止日期 : 20210530
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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