一种半导体芯片加工用清洗设备
公开
摘要
本发明公开了一种半导体芯片加工用清洗设备,包括清洗池、外下筒与外上筒,所述外下筒内设有内筒,所述内筒的侧壁开设有多个出水孔,所述外下筒的内壁上固定连接有驱动杆,所述内筒的侧壁开设有升降槽,所述驱动杆滑动设置在升降槽内,所述外下筒的下端开设有方槽,所述清洗池内底部转动设置有方轴,且所述方轴滑动设置在方槽内,所述内筒上安装有使内筒上下移动的移动机构,所述内筒上安装有将清洗池内液体注入内筒中的注液机构。本发明通过在进行清洗时通过注液机构将清洗药液注入内筒中,同时移动机构使内筒进行上下摇晃,如此可使内筒中的芯片上下分散开来,清洗药液能够与芯片表面充分接触同时还进行冲刷,有效提高了清洗效率。
基本信息
专利标题 :
一种半导体芯片加工用清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114602863A
申请号 :
CN202210223530.7
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-03-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
何冉俊
申请人 :
何冉俊
申请人地址 :
广东省江门市开平市三埠街道祥龙中路37-41号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202210223530.7
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B3/08 B08B3/10 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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