本实用新型公开了一种支撑杆及带有该支撑杆的蚀刻装置，其中蚀刻装置主要包括壳体，以及活动设置于蚀刻腔内的平台，平台的上方设有喷气机构，壳体底部设有真空泵连接孔，平台可在蚀刻腔内进行升降运动，同时平台上竖直穿设有支撑杆，支撑杆与平台滑动配合，其下端固定支撑于蚀刻腔的底壁上，且支撑杆与平台之间设有扶正通道，支撑杆包括躯干部和头部，头部外径大于或等于躯干部的外径，躯干部和头部的材质均为碳化硅，且碳化硅的纯度大于或等于99％。通过改变支撑杆的材质，以及在蚀刻装置内设置相应的扶正通道和扶正结构，减少蚀刻整个工艺中对基板的划伤及表面附着颗粒，保证基板表面的光滑度，即提高基板蚀刻成品质量。