一种匀强电场辅助纳米压印成型装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种匀强电场辅助纳米压印成型装置，首先调节X向工作平台和Z向工作平台，使压印模具置于衬底的正上方，通过调节压印装置的上、下两电极板之间的电压来控制极板之间产生的匀强电场力，并以匀强电场力作为压印力进行压印，脱模时向两电极板之间反复施加正反两方向的等大可调电压，形成正反向的匀强电场力并以此作为脱模力，使压印模具与衬底分离。本实用新型采用匀强电场力作为压印力，使得压印模具受到均匀的力可使模具上的微结构更好的转印至基板上，同时以反复的正反两方向的匀强电场力作为脱模力，保证在脱模过程中图案的完整性，并且在脱模过程中通过调节水平调节装置，调节得到适宜的脱模角度，提高压印图案精度及分辨率。
基本信息
专利标题 ：
一种匀强电场辅助纳米压印成型装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921067353.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-10
授权号 ：
CN209879252U
授权日 ：
2019-12-31
发明人 ：
谷岩陈斯康洺硕李先耀冯开拓张昭杰徐宏宇徐贞潘颜家瑄易正发戴得恩卢发祥刘骜段星鑫辛成磊
申请人 ：
长春工业大学
申请人地址 ：
吉林省长春市延安大街2055号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921067353.8
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2019-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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