一种基于非谐振辅助的纳米压印装置
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摘要

本实用新型公开了一种基于非谐振辅助的纳米压印装置,首先将衬底放在衬底卡盘中,调节Y轴位移平台及X‑Z轴位移平台使衬底移动到模板正下方,再控制X‑Z轴位移平台使压印装置向下运动,直至压印装置与衬底微接触,控制X‑Z轴位移平台进行压印,在压印同时使用Z向振动平台对衬底施加Z向振动,然后利用冷却装置对衬底进行冷却固化,最后用揭开式振动辅助的方法进行脱模,本实用新型采用Z向振动平台带动衬底进行压印,提高模板空腔的填充率与微纳图案的分辨率;采用吸气泵及多个独立封闭通道在脱模时实现揭开式脱模,在模板在与衬底逐渐分离的同时进行振动辅助,减小模板与压印胶间的粘附力,从而减少脱模时对模板造成的损伤与毁坏,延长模板的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种基于非谐振辅助的纳米压印装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921067351.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-10
授权号 :
CN209879251U
授权日 :
2019-12-31
发明人 :
谷岩康洺硕徐宏宇陈斯冯开拓颜家瑄李先耀张昭杰徐贞潘易正发戴得恩段星鑫卢发祥刘骜辛成磊
申请人 :
长春工业大学
申请人地址 :
吉林省长春市延安大街2055号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921067351.9
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2019-12-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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