一种气体辅助紫外纳米压印装置

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摘要

本实用新型公开了一种气体辅助紫外纳米压印装置，该装置包括机架、升降装置、压印装置、工作平台、气体装置、Z轴微动装置，装卡已涂胶衬底，升降装置控制压印装置下降，使其与工作平台紧密贴合形成封闭腔室，Z轴微动装置控制衬底贴近软模板，气体装置对封闭腔室抽气形成负压环境，使软模板下移进行压印，紫外线灯对压印胶进行固化，气体装置对封闭腔室充气完成脱模，最后压印装置上升，取出带有微结构的衬底，完成压印。本装置使用真空负压施压技术，在对曲面衬底压印时，能使软模板和衬底形成更好的共形接触，并有效提高压印力和脱模力的均匀性，从而增大压印胶的填充率，改善软模板损伤和衬底翘曲的问题，提高转移图案的精度和保真度。

基本信息

专利标题：

一种气体辅助紫外纳米压印装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022317515.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-19

授权号：

CN213634096U

授权日：

2021-07-06

发明人：

谷岩刘亚梅许济琛李超陈文豪卢发祥李洁康洺硕范亚林郭金槄邹晨宇袁旭郭鑫付斌张昭杰

申请人：

长春工业大学

申请人地址：

吉林省长春市朝阳区延安大街2055号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202022317515.8

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00