本发明公开了一种采用高压气体的纳米压印胶的雾化喷涂结构，包括水平通道、第一喷射器、排气机构、喷淋装置和样品承载机构。初始雾化后的压印胶通过通道的入口进入该水平通道。第一喷射器布置在所述水平通道内，该第一喷射器用于喷射第一高压气体以形成第一激波。排气机构设置在所述水平通道内且位于所述第一喷射器的下游，该排气机构的内部填充有密度小于空气的气体，所述排气机构具有排气部以用于向上排出所述密度小于空气的气体。喷淋装置布置在所述排气机构的下游以于向下喷射高速气体。样品承载机构位于喷淋装置的下方。本发明的纳米压印胶的雾化喷涂结构，能够将初始雾化的压印胶进一步地雾化以形成更小的雾滴。