氮化物的制造设备
授权
摘要
本实用新型提供一种氮化物的制造设备，其包括反应容器(1)、第一管路(21)、第二管路(22)和真空泵(3)，所述反应容器(1)的外周设有第一加热器(51)，所述第一管路(21)连接到反应容器(1)，所述第一管路(21)用于向所述反应容器(1)注入反应溶剂，所述第二管路(22)将所述真空泵(3)连接到所述第一管路(21)，所述第一管路(21)和/或所述第二管路(22)的外周设有第二加热器(52)。根据本实用新型的氮化物的制造设备，能有效去除设备内的氧和水，提高氮化物的纯度。
基本信息
专利标题 ：
氮化物的制造设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921111286.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-16
授权号 ：
CN210368000U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
乔焜高明哲林岳明
申请人 ：
上海玺唐半导体科技有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区文翔东路58号9幢1楼
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN201921111286.5
主分类号 ：
C30B29/40
IPC分类号 ：
C30B29/40 C30B7/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/40
AⅢBv化合物
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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