一种晶硅电池片链式碱抛光生产线
授权
摘要
本实用新型涉及太阳能电池制备技术领域，具体涉及一种晶硅电池片链式碱抛光生产线，链式碱抛光生产线包括：封闭箱，所述封闭箱内依次设有相互连通的上料系统、第一酸洗系统、第一水洗系统、第一抛光系统、第二抛光系统、第二水洗系统、第二酸洗系统、第三水洗系统、烘干系统和出料系统，所述第一酸洗系统和所述第二酸洗系统均包括储酸槽，所述储酸槽内装有氢氟酸溶液。上述生产线在酸洗过程仅使用氢氟酸溶液作为清洗液，从源头上避免了NOx的生成，且不会排放含有HNO3的废水，能够有效解决晶硅太阳能电池制备过程中的环境污染问题。
基本信息
专利标题 ：
一种晶硅电池片链式碱抛光生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921216188.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210136844U
授权日 ：
2020-03-10
发明人 ：
吴章平崔水炜
申请人 ：
苏州昊建自动化系统有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区漕湖大道48号
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑越
优先权 ：
CN201921216188.8
主分类号 ：
H01L21/02
IPC分类号 ：
H01L21/02 H01L21/67 H01L31/18
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2020-03-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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