一种高压离子轰击的真空镀膜机
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摘要

本实用新型公开了一种高压离子轰击的真空镀膜机,包括底板,所述底板的顶部固定连接有镀膜机本体,所述镀膜机本体的顶部固定连接有电机箱,所述电机箱内壁的顶部固定连接有电机,所述电机的输出轴固定连接有转杆,所述转杆的一端贯穿镀膜机本体并延伸至镀膜机本体的内部,所述转杆延伸至镀膜机本体内部的一端固定连接有第一圆盘,所述第一圆盘的底部固定连接有夹具,所述夹具的底部固定连接有第二圆盘。本实用新型所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机,设有加热箱与水泵,能够提高膜层的结合力,又不会使晶粒过大,极大的提高了真空镀膜机的效率,还可以提高真空镀膜机的工作效率,使用效果好,带来更好的使用前景。

基本信息
专利标题 :
一种高压离子轰击的真空镀膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921265443.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-07
授权号 :
CN210287516U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
刘林兴
申请人 :
苏盛纳米涂层科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇230省道藏书888号第七号标准厂房西
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921265443.8
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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