一种高压离子轰击的真空镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种高压离子轰击的真空镀膜机，其结构包括控制台、控制面板、真空镀膜机、防护门、门把手、报警指示灯、快速定位装置、散热口、支撑脚，所述支撑脚依次连接成长方形结构排列于真空镀膜机底部，所述控制台后端与真空镀膜机底端前侧焊接，所述控制面板侧面镶嵌在控制台顶端内部，所述防护门安装在真空镀膜机中端前侧，所述防护门前侧与门把手背部焊接，所述散热口从上到下间隔相同依次排列于真空镀膜机左侧，所述真空镀膜机顶部与报警指示灯底部垂直连接，增加了快速定位装置，该装置能够快速对需要镀膜的物体进行定位，这样会提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种高压离子轰击的真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020735710.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-07
授权号 ：
CN212199405U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
叶孙福
申请人 ：
叶孙福
申请人地址 ：
福建省泉州市南安市诗山镇社一村后坑2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020735710.X
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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