一种高压真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高压真空镀膜装置，包括：冷却室、设于所述冷却室内的镀膜室以及设于所述冷却室上的循环冷却机构；其中，所述循环冷却机构包括设于所述冷却室上端的出风口、与所述出风口通过管道连通的抽气泵以及水冷箱，所述水冷箱内设置有盘管和冷却液，所述抽气泵的出气端与所述盘管的第一端连通，所述盘管的第二端通过管道与所述冷却室下端连通。本申请解决了相关技术中的真空镀膜设备散热困难的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种高压真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021755513.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN213013063U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
王正云刘贺威
申请人 ：
苏州众智泽智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山开发区中小企业园风琴路108号7号厂房1楼
代理机构 ：
北京酷爱智慧知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡林
优先权 ：
CN202021755513.0
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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