一种不受残留余滴影响的SVG显影机
授权
摘要
本实用新型公开了一种不受残留余滴影响的SVG显影机，属于显影设备技术领域，其技术方案要点是，包括机壳、电机、电动滑轨和安装块，电机、电动滑轨和安装块均设置在机壳的内部，机壳的内部嵌入设置有接液皿，机壳上端面的左右两侧分别固定安装有显影液罐和纯水罐，显影液罐和纯水罐上均连接有输送管；电机固定安装在机壳的内侧底部，且位于接液皿的轴心位置，电机的动力输出端上水平同轴安装有工作台；电动滑轨包括有直轨以及滑动连接在该直轨上的滑块。该种不受残留余滴影响的SVG显影机可以十分便捷地调节喷嘴的喷淋角度，并且喷嘴上的残留余滴不会影响喷淋工作的正常进行，从而实现残留余滴也不会影响硅片的显影和定影效果。
基本信息
专利标题 ：
一种不受残留余滴影响的SVG显影机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921948660.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN210514937U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
薛芳峰吴方军乔德定严建华喻建华祝文星周仕民
申请人 ：
德兴市意发功率半导体有限公司
申请人地址 ：
江西省上饶市德兴市高新技术产业园
代理机构 ：
南昌卓尔精诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈志辉
优先权 ：
CN201921948660.7
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 G03F7/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
