一种真空镀膜连续密封装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜连续密封装置，包括密封装置盒体、带材卷筒固定架、牵引板、压紧机构、送料辊筒、带材卷筒、盒盖和驱动电机，所述密封装置盒体的中心位置安装有可旋转的带材卷筒固定架，所述带材卷筒套装在带材卷筒固定架的表面上，所述密封装置盒体的一侧上部设置有带材出料口，所述带材出料口的上部设置有安装在密封装置盒体内部的压紧机构，所述带材出料口的下部设置有安装在密封装置盒体内部的送料辊筒，所述送料辊筒的一侧设置有固定在密封装置盒体内部的牵引板，本实用新型能有效的防止空气进入装置的内部，从而避免带材连续进入真空镀膜设备内部时容易携带空气进入的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜连续密封装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921966183.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-14
授权号 ：
CN210945777U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
姜涛
申请人 ：
苏州竣腾纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区工业园区胜浦银胜路133号
代理机构 ：
苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
金香云
优先权 ：
CN201921966183.7
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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