一种半导体生产用废气处理装置
授权
摘要

本实用新型涉及半导体生产技术领域,尤其是一种半导体生产用废气处理装置,针对现有的气体污染处理不完全的问题,现提出如下方案,其包括反应箱,所述反应箱的上侧固定连接有出风管,且出风管的另一端固定连接有初级处理箱,所述初级处理箱的一侧固定连接有通气管,所述通气管的上侧固定连接有多个燃烧管,所述燃烧管的上方固定连接有与反应箱固定连接的隔绝板,所述隔绝板的一侧固定连接有排气管,且排气管的另一端固定连接有分隔箱,所述分隔箱的上侧固定连接有过滤管,本实用新型结构简单,使用方便,排放的气体安全稳定,保护工作人员的身体健康同时达到绿色环保的生产,减少反应能源的供应,节约能源,节约企业的生产成本。

基本信息
专利标题 :
一种半导体生产用废气处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922116908.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-02
授权号 :
CN211384509U
授权日 :
2020-09-01
发明人 :
张志平
申请人 :
襄阳斯迈克电气有限公司
申请人地址 :
湖北省襄阳市高新区追日路9号汉北工业园1幢3楼
代理机构 :
六安众信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
鲁晓瑞
优先权 :
CN201922116908.X
主分类号 :
B01D53/78
IPC分类号 :
B01D53/78  B01D53/62  B01D46/10  F23G7/06  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离;从气体中回收挥发性溶剂的蒸气;废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/34
废气的化学或生物净化
B01D53/74
净化废气的一般方法;为这类方法特别设计的设备或装置
B01D53/77
液相方法
B01D53/78
利用气—液接触
法律状态
2020-09-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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