一种散射法比浊测量装置
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摘要

本实用新型提供了一种散射法比浊测量装置,包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器以及阀基座;反应池设置在光束整形组件后的光路上,入射至反应池的光线经过反应池时形成直射的透射光及散射的散射光;阀基座设置在透射光的光路上,阀基座为安装有用于控制液体管路的阀的基座,液体管路与反应池连通以用于向反应池输送液体,阀基座用于将透射光反射出散射法比浊测量装置,透射光反射出散射法比浊测量装置的方向偏离光源发出的光线以及散射光的方向。本实用新型采用阀基座来将透射光反射出散射法比浊测量装置,在不增加反射体的基础上消除了透射光因反射回光源而对光源出射光功率稳定性造成的影响,提高检测精度。

基本信息
专利标题 :
一种散射法比浊测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922163781.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-05
授权号 :
CN211955214U
授权日 :
2020-11-17
发明人 :
章涛汪东生
申请人 :
深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区高新技术产业园区科技南十二路迈瑞大厦
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
熊永强
优先权 :
CN201922163781.7
主分类号 :
G01N21/51
IPC分类号 :
G01N21/51  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射,即漫反射
G01N21/49
固体或流体中的散射
G01N21/51
容器内的,例如安瓿内的
法律状态
2020-11-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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