喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底
专利权的终止
摘要
用于表面增强喇曼散射分析的测量装置所专用的吸附衬底属于表面分析技术和光谱技术领域。本实用新型是用适当颗粒的金属粉末对铜片或铝片进行机械抛光，获得表面粗糙度为500和1000的铜质吸附衬底和铝制吸附衬底。利用这种吸附衬底进行表面分析及痕迹物质的检测均有很高的灵敏度，并且价格低廉。
基本信息
专利标题 ：
喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN86201587.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1986-03-20
授权号 ：
CN86201587U
授权日 ：
1987-03-25
发明人 ：
莫育俊李秀英
申请人 ：
中国科学院物理研究所
申请人地址 ：
北京市603信箱
代理机构 ：
中国科学院物理研究所专利办公室
代理人 ：
高存秀
优先权 ：
CN86201587.1
主分类号 ：
G01N21/65
IPC分类号 ：
G01N21/65
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/65
喇曼散射
法律状态
1990-07-11 ：
专利权的终止
1987-10-07 ：
授权
1987-03-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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