一种多晶硅铸锭硅片清洗设备
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摘要

本实用新型公开了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定连接有底座,所述箱体顶部的左侧通过固定座固定连接有转动电机,所述转动电机的输出端固定连接有转动盘,所述转动盘的右侧固定来连接有短杆,所述短杆的外表面活动连接有摆动杆,所述摆动杆的一侧开设有通槽,本实用新型涉及片清洗设备技术领域。该多晶硅铸锭硅片清洗设备,通过在箱体的顶部设置转动电机,配合转盘上的短杆和摆动杆,再利用分叉杆和清理海绵,从而带动清理海绵进行摆动,能够使得喷头对硅片进行冲洗时,与水流方向相垂直的硅片被其清理海绵推平,同时对硅片上的赃物进行擦洗,通过此结构对硅片进行清洗效果较为明显。

基本信息
专利标题 :
一种多晶硅铸锭硅片清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922275200.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-18
授权号 :
CN210743924U
授权日 :
2020-06-12
发明人 :
肖真方
申请人 :
武汉百臻半导体科技有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市中国(湖北)自贸区武汉片区光谷大道62号关南福星医药园第5幢3层1号
代理机构 :
湖北天领艾匹律师事务所
代理人 :
程明
优先权 :
CN201922275200.9
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-06-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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