一种多晶硅片的清洗设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种多晶硅片的清洗设备，属于机械技术领域。它解决了现有硅片清洗系统清洗效率较低等技术问题。本多晶硅片的清洗设备，包括底座，底座上设置有上料输送带和下料输送带，其特征在于，所述上料输送带和下料输送带之间设置有上料座、清洗槽一和清洗槽二，上料座、清洗槽一和清洗槽二依次固定在底座上，上料座上可放置有用于存放硅片的放料筐，上料座上还固定有用于定位放料筐的挡板，所述底座上还设置有用于运输放料筐的运输结构。本实用新型具有工作效率高的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种多晶硅片的清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020400662.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-25
授权号 ：
CN211989971U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
黄贤强
申请人 ：
浙江溢闳光电科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市海盐县澉浦长青路1号
代理机构 ：
浙江永航联科专利代理有限公司
代理人 ：
俞培锋
优先权 ：
CN202020400662.9
主分类号 ：
B08B3/04
IPC分类号 ：
B08B3/04 B08B3/10 B08B13/00 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211989971U.PDF
PDF下载
